Crean un nuevo método de litografía óptica

tilizando esta nanolitografía plasmónica, será posible hacer 10 veces más pequeños y mucho más potentes a los microprocesadores actuales. Esta tecnología también podría conducir a discos de densidad ultraelevada capaces de almacenar de 10 a 100 veces más información que los discos actuales.

Xiang Zhang, profesor de ingeniería mecánica de la Universidad de California en Berkeley y jefe del equipo de investigación que está detrás de esta nueva idea, trabajó conjuntamente en el proyecto con David Bogy de la misma universidad y especialidad.

El proceso de litografía óptica comparte algunos de los mismos principios de la fotografía de película, la cual crea imágenes exponiendo a la luz la película en una cámara, y revelando entonces dicha película con soluciones químicas. En la industria de los semiconductores, la litografía óptica es un proceso en el cual se transfiere la luz a través de una máscara con el patrón de circuito deseado sobre un material fotosensible, o fotorresistente, que reacciona químicamente cuando es expuesto. El material entonces pasa a través de una serie de baños químicos para grabar el diseño de circuito sobre una oblea.

Con la litografía óptica, o fotolitografía, se puede llevar a cabo una proyección instantánea del diseño de un circuito complejo sobre una oblea de silicio. Sin embargo, la resolución máxima posible con esta técnica está limitada por la naturaleza de la luz. Para obtener detalles de menor tamaño, se deben utilizar longitudes de onda más y más pequeñas, lo que incrementa de manera notable el costo de fabricación. Además, la luz tiene un límite de difracción que restringe el grado de miniaturización del espacio sobre el que se puede enfocar la luz. Actualmente, el detalle de menor tamaño con fotolitografía convencional es de cerca de 35 nanómetros, pero la nueva técnica es capaz de lograr una resolución mucho mayor a un costo relativamente pequeño.